Китай начал серийный выпуск собственных DUV-установок для производства чипов
Китай начал серийно выпускать собственные установки для иммерсионной глубокой ультрафиолетовой литографии (DUV) — технологии, необходимой для производства современных микросхем. Проект возглавила малоизвестная государственная Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, cообщил Reuters источник.
Aishengna зарегистрировали в 2023 году с капиталом 7 млрд юаней, или около $1 млрд. По словам источника Reuters, компания объединила команды литографического стартапа Yuliangsheng и производителя оборудования Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE). The Information сообщило, что в 2026 году предприятие планирует выпустить около пяти установок, а в 2027-м — примерно 20.
Китайские системы пока заметно уступают DUV-машинам голландской ASML и нуждаются в дополнительных испытаниях, сообщил собеседник Reuters. Однако успешное внедрение установок даст местным производителям чипов резервный источник критически важного оборудования — особенно в случае новых ограничений на поставки и обслуживание зарубежных машин.
По данным The Information, первые установки уже в 2026 году планируют передать крупнейшим китайским производителям микросхем — SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies (CXMT).
При иммерсионной DUV-литографии пространство между проекционным объективом и кремниевой пластиной заполняют водой. Это позволяет печатать более мелкие элементы схем, чем при традиционной «сухой» литографии. Такие установки подходят для выпуска широкого диапазона микросхем, а многократное нанесение рисунка на один слой помогает производить более сложные чипы.
Китай ускорил разработку собственной литографической техники из-за экспортных ограничений. США закрыли местным компаниям доступ к самым современным EUV-системам ASML, а Нидерланды ограничили поставки некоторых передовых DUV-машин.
В ближайшие годы китайские установки вряд ли заметно повлияют на бизнес ASML, считают аналитики JPMorgan. Выпустить несколько машин и добиться их стабильной работы на линиях массового производства чипов — разные задачи. Для фабрик критичны точность совмещения слоев, скорость обработки, надежность на тысячах пластин и доля годных микросхем. Китай при этом остался важным рынком для ASML — за первое полугодие на него пришлось около 16% выручки компании.
Подпишитесь на «Инк» в Telegram. Там мы пишем нескучным языком о самом важном для предпринимателей. Подписаться.
